普達特科技(00650.HK)公布，公司已成功向客戶交付一台12英寸高溫硫酸清洗設備。該設備廣泛應用于28/14/7nm等先進制程的關鍵清洗工藝，市場目前主要由海外設備供應商壟斷。公司研發的該設備，經過前期測試驗證，在技術性能方面均達到對标海外設備，且具備國内領先、國際一流的高溫控制能力，可覆蓋至190℃的高溫硫酸清洗工藝。同時，該設備具備集成化與兼容性設計，并采用靈活的應用配置，可為客戶提供更具綜合競争力的解決方案。
此外，公司近期已成功向4家客戶交付5台單片晶圓清洗設備，包括：向一家12英寸晶圓代工廠客戶，成功交付一台OCTOPUS設備，用于28nm制程的關鍵清洗道次；向一家12英寸高性能模拟與功率器件客戶，成功交付一台OCTOPUS設備與一台CUBE設備等。上述成功交付的訂單中，有兩台設備訂單為來自現有客戶的重複訂單。公司亦獲得一台OCTOPUS設備重複訂單，該設備即将進行交付。上述訂單的收入均暫未确認。
未來，公司将繼續緻力於完成該等半導體清洗設備的訂單交付與驗收，并充分發揮公司技術團隊在半導體濕法技術方面的優勢，繼續擴大高質量半導體客戶在關鍵應用領域對公司設備的采用。
